檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Lithography".ekeyword (精準) and cdept.raw="光電工程研究所"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
傳統的全像術曝光系統因其反射鏡限制了其週期大小與曝光面積,為了克服此問題,本論文採用兩條光纖取代原有的反射鏡及擴束器,並利用光纖可彎曲的特性,改良全像干涉曝光系統的光路,使其曝光面積較不受干涉圖案週…
2
氮化鎵材料生長在藍寶石基板難以劈裂,本論文研究以非劈裂式方法製作邊射型雷射共振腔反射面,用黃光微影與乾式蝕刻定義出共振腔的區域,並以奈米壓印微影技術取代電子束微影技術製作氮化鎵分佈回饋式雷射的光柵結…
3
ㄧ維(1D)的過渡金屬氧化奈米結構藉由自我催化組成的方式製備,受到了廣泛的研究。奈米線具高的深寬比結構,大的表面體積比與獨特的物理性質,包含光學、磁學與電學特性。氧化鎢(W18O49)為一N型的寬能…